DGaO·Proceedings ISSN 1614-8436
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F. Scholze

Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Berlin

6 Beiträge

A16 · Vortrag · 125. Tagung (2024)

Entwicklungen und Herausforderungen in der EUV und X-ray nano metrologie für Lithographische Strukturen

V. Soltwisch, R. Ciesielski, M. Mulazzi, A. Fernandez-Herrero, A. Andrle, N. Abbasirad, V. Truong, L. Lohr, P. Hönicke, M. Kolbe, F. Scholze
P20 · Poster · 124. Tagung (2023)

Präzise optische Konstanten: Die europäische OCDB

V. Soltwisch, R. Ciesielski, Q. Saadeh, N. Abbasirad, M. Kolbe, F. Scholze
B12 · Vortrag · 116. Tagung (2015)

Blazed XUV Gratings with a Very Low Level of Stray Light

M. Burkhardt, R. Fechner, A. Nickel, F. Frost, A. Gatto, C. Laubis, F. Scholze, S. Sinzinger, V. Soltwisch
P19 · Poster · 115. Tagung (2014)

Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich

M. Burkhardt, R. Fechner, D. Flamm, F. Frost, A. Gatto, C. Laubis, F. Scholze, S. Sinzinger, V. Soltwisch
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A28 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

Towards traceability in scatterometric-optical dimensional metrology for optical lithography

B. Bodermann, J. Endres, H. Groß, M.-A. Henn, A. Kato, F. Scholze, M. Wurm
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P74 · Poster · 107. Tagung (2006)

Untersuchungen zur Eignung der EUV-Scatterometrie zur quantitativen Charakterisierung periodischer Strukturen am Beispiel einer COG-Photomaske

M. Wurm, B. Bodermann, C. Laubis, F. Scholze
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