A26 · Vortrag · 111. Tagung (2010)
Aufbau eines 193 nm Mikroskops als Strukturbreitenmesssystem für Photomasken
Z. Li, F. Pilarski, D. Bergmann, B. Bodermann, E. Buhr
P34 · Poster · 109. Tagung (2008)
Konstruktive Realisierung eines hochaperturigen 193nm-Mikroskops für die quantitative dimensionelle Charakterisierung von Mikro- und Nanostrukturen
G. Ehret, F. Pilarski, D. Bergmann, B. Bodermann, E. Buhr, W. Mirandé