P17 · Poster · 112. Tagung (2011)
Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization
U. Vogler , A. Bramati , R. Völkel , M. Hornung , R. Zoberbier , K. Motzek , A. Erdmann , L. Stürzebecher , U. Zeitner
C20 · Vortrag · 110. Tagung (2009)
Development of a large blazed transmission grating by binary index modulation for the GAIA Radial Velocity Spectrometer
M. Erdmann, U. Zeitner, E. B. Kley