M. Hornung

SUSS MicroTec Lithography GmbH, Garching, Germany

3 Beiträge

A2 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

MO Exposure Optics: Pushing Limits of Shadow Printing Lithography in Mask Aligners

U. Vogler, A. Bramati, R. Voelkel, M. Hornung

B22 · Vortrag · 112. Tagung (2011)

Optimierung des Beleuchtungssystem eines Mask Aligners (MO Exposure Optics)

U. Vogler , A. Bich , M. Hornung , R. Zoberbier , R. Völkel , St. Sinzinger

P17 · Poster · 112. Tagung (2011)

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization

U. Vogler , A. Bramati , R. Völkel , M. Hornung , R. Zoberbier , K. Motzek , A. Erdmann , L. Stürzebecher , U. Zeitner