B22 · Vortrag · 112. Tagung (2011)
Optimierung des Beleuchtungssystem eines Mask Aligners (MO Exposure Optics)
U. Vogler , A. Bich , M. Hornung , R. Zoberbier , R. Völkel , St. Sinzinger
P17 · Poster · 112. Tagung (2011)
Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization
U. Vogler , A. Bramati , R. Völkel , M. Hornung , R. Zoberbier , K. Motzek , A. Erdmann , L. Stürzebecher , U. Zeitner