K. Motzek

Fraunhofer IISB, Erlangen

1 paper

P17 · Poster · 112. Conference (2011)

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization

U. Vogler , A. Bramati , R. Völkel , M. Hornung , R. Zoberbier , K. Motzek , A. Erdmann , L. Stürzebecher , U. Zeitner