L. Stürzebecher

Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena, Germany

2 Beiträge

A1 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

AMALITH: Advanced Mask Aligner Lithography

A. Bramati, T. Weichelt, L. Stürzebecher, B. Meliorisz, U. Vogler, R. Voelkel
P17 · Poster · 112. Tagung (2011)

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization

U. Vogler , A. Bramati , R. Völkel , M. Hornung , R. Zoberbier , K. Motzek , A. Erdmann , L. Stürzebecher , U. Zeitner