XUV-Optik - neue unkonventionelle Bestimmung ihrer Flächenformen bei BESSY mit der NOM

Die BESSY-Neuentwicklung einer nach dem Deflektometrie-Prinzip arbeitenden "Nanometer-Optikkomponenten-Messmaschine" - NOM - konnte bereits in vielen praktischen Fällen für die Prüfung und bei der Herstellung von Synchroton-Optikkomponenten angewendet werden. Die nachgewiesenen Messunsicherheiten in Bereichen von < 1 nm bzw. 10 Milli-Winkelsekunden (50 nrad) führten auch zu Qualitätsaussagen bei Referenznormalen für die Interferrometer und bei Kalibrierspiegeln für Autokollimatoren mit diesen Genauigkeiten, also Lambda/1000 bzw. Krümmungsradiusbestimmung > |±10.000| km. Spiegel und Gitter zur Strahlführung und Monochromatisierung von Synchrotronstrahlung konnten genauer gemessen werden als es die gegenwärtigen technologischen Grenzen ermöglichen, beispielsweise ein asphärischer Spiegel von 190 mm Länge, Einsatz im Wellenlängenbereich 4...12 nm: nachgewiesene Formabweichung 2nm rms bzw. 0,1 arcsec rms slope error (optische Fläche über 70 cm² gemessen für Ionenstrahl-Korrekturprozess). Kommerziell sind heute solche Komponenten mit maximaler Genauigkeit von 0,5 arcsec rms erhältlich.