Vakuum-UV-Spektroskopie an synthetischem Quarzglas unter UV- Pulslaserbestrahlung

Lichtalterung von synthetischem Quarzglas unter UV-Pulslaserbestrahlung behindert UV-Laseranwendungen, insbesondere die Laserlithographie, sehr stark. Neue Erkenntnisse über die Mechanismen und Parameter der Lichtalterung werden von der in situ - Vakuum-UV-Spektroskopie z.B. an OH-reichem Quarzglas unter ArF-Laserbestrahlung (10^6 Pulse, 110 bis 220 mJ/cm²) erwartet. Bei 220 mJ/cm² sinkt der optische Bandabstand EO von 7,3 auf 7,1 eV und die Urbach-Energie EU steigt von 0,135 auf 0,19 eV, wobei beide einem einfachen exponentiellen Zeitgesetz folgen. Die Bandabstandsänderung ist teilweise reversibel (Temperatureffekt). Zwischen der irreversiblen EO-Veränderung und der EU-Entwicklung besteht für alle angewendeten Laserfluenzen eine nichtlineare Korrelation. Zusätzlich erhöht sich die langwellige Absorption (< 7 eV), was mit der Bildung von E'- und ODCII-Defektzentren im Einklang steht.