Optische Response von periodischen 1D und 2D metallischen Subwellenlängenstrukturen

Metallische Subwellenlängenstrukturen bieten das Potenzial polarisierende Eigenschaften, Filtereigenschaften und diffraktive Eigenschaften zu kombinieren. Die Herstellung mittels Elektronenstrahllithographie ermöglicht laterale Strukturdimensionen von weniger als 150nm. Der vorliegende Beitrag beschäftigt sich mit der optischen Response von elektronenstrahllithographisch hergestellten 1D und 2D Gitterstrukturen in Chrommasken. Die Perioden dieser Strukturen variieren zwischen 500nm und 10µm und die dazugehörigen Füllfaktoren zwischen 0.5 und 0.05. Die experimentell bestimmte optische Response für TE- und TM-polarisiertes Licht wird für diese Gitterstrukturen in einem Spektralbereich zwischen 600nm und 1600nm dargestellt. Die vorgestellten experimentellen Ergebnisse werden mit rigorosen Modellierungen (RCWA) an Modellstrukturen verglichen. Der Einfluss der realen Mikrostruktur wird ebenfalls diskutiert.