Direktes Laserstrahlschreiben zur Erzeugung von binären und kontinuierlich strukturierten Diffraktiven Optischen Elementen mit einem 405nm Halbleiterlaser.

Die Verwendung von Halbleiterlasern mit der Wellenlänge 405 nm an Stelle von Gaslasern kann Laserlithographiesysteme wesentlich verbessern. Die Empfindlichkeit des Photolacks ist bei 405 nm um ein Vielfaches höher als für die bisher üblicherweise verwendeten Argon- oder Kryptonlinien und man erreicht eine höhere Auflösung. Peltierkühlung des Lasers vermeidet Vibrationen und Lärmbelästigung einer Luftkühlung. Direkte Montage des Lasers am Portal erspart eine Faserkopplung. Durch Intensitätsmodulation über den Diodenstrom entfallen die aufwendigen AOM. Man erreicht ein kompakteres, stabileres System mit wenigen Justageparametern. Die hohe Sensitivität ermöglicht zudem eine erhebliche gesteigerte Schreibgeschwindigkeit. Beispiele von CGHs für die Lasermaterialbearbeitung sowie kontinuierliche Strukturen werden vorgestellt.