Herstellung synthetischer Mehrstufen-Hologramme mittels eines Scanning Nearfield Optical Lithography (SNOL) -Systems

Durch die Erhöhung der Stufenanzahl im Profil der Mikrostruktur synthetischer Holgramme kann die Beugungseffizienz und der Kontrast erheblich verbessert werden. So erreichen z.B. digitale Hologramme mit 8 Stufen eine theoretische Beugungseffizienz von 95%. Durch den Einsatz eines Scanning Nearfield Optical Lithography (SNOL) -Systems kann die Begrenzung durch die optische Auflösung umgangen werden. Die Belichtungsparameter des SNOL-Systems werden so weit optimiert, dass mehrstufige Strukturen in die Fotolackschicht eingeschrieben werden können. Die Strukturgrößen der Stufen der synthetischen Hologramme liegen dadurch im Sub-Mikrometerbereich. Neben der Vorstellung der technischen Ausführung des Verfahrens werden Ergebnisse zur Herstellung synthetischer Mehrstufen-Hologramme präsentiert.