Effiziente numerische Behandlung teilkohärenter Lichtausbreitung

Für die optische Tiefen-Lithographie lässt sich das Verhalten von Photoresist durch die dreidimensionale Intensitätsverteilung simulieren. Hierzu verwendet man üblicherweise die Fresnelausbreitung bzw. die Zerlegung nach ebenen Wellen für kohärente Lichtquellen. Da die verwendeten konventionellen Lichtquellen nicht kohärent sind, müssen die Kohärenzeigenschaften berücksichtigt werden. Im Vortrag wird zunächst vorgestellt, wie die Kohärenzeigenschaften meßtechnisch ermittelt werden. Im weiteren wird ein effizientes Berechnungsverfahren vorgestellt, welches die inkohärente, polychromatische Intensitätsverteilung als eine quasi-Faltung der skalierten Lichtquelle mit der propagierten Maske darstellt. Ein Vergleich von experimentellen und numerischen Ergebnissen zeigt die Zuverlässigkeit des Verfahrens.