Herstellung Diffraktiv Optischer Elemente mittels Nahfeldlithografie
Fachhochschule Oldenburg Ostfriesland Wilhelmshaven, Emden
Abstract
Um den Beugungswirkungsgrad Diffraktiv Optischer Elemente (DOEs) zu erhöhen, ist die Herstellung von Unterstrukturen notwendig, die Strukturbreiten im Submikrometerbereich erfordern. Eine Möglichkeit hierzu stellt die Nahfeldlithografie (SNOL – Scanning Nearfield Optical Lithography) mit speziell präparierten Glasfaserspitzen dar. Durch die sehr feine Apertur im Bereich einiger 100nm und deren geringen Abstand zur Photolackoberfläche (etwa 25nm) wird diese punktgenau belichtet. Es wird ein Überblick über die verwendeten technischen Komponenten, sowie die Herstellung der Glasfaserspitzen für SNOL mittels Ätztechniken gegeben.
Keywords
Diffraktive Optik
Nanotechnologie
Mikrolithografie
@inproceedings{dgao107-p43,
title = {Herstellung Diffraktiv Optischer Elemente mittels Nahfeldlithografie},
author = {H.Buse, F.Ahnepohl, F.Buchmüller, R.Parkin, H.Kreitlow},
booktitle = {DGaO-Proceedings, 107. Jahrestagung},
year = {2006},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
issn = {1614-8436},
note = {Poster P43}
}
107. Annual Conference of the DGaO · Weingarten · 2006