Entwicklung multifunktionaler Kalibriernormale für bildverarbeitende 3D-Mikroskope

Zur Untersuchung der Fehlstellen- und Artefaktentstehung bei optisch arbeitenden 3D-Mikroskopen wurden Messungen an ausgewählten Strukturen gemacht, die für das jeweilige Messgerät problematisch sind. Zu nennen sind hier insbesondere Stufen und gekrümmte Flächen, an denen charakteristische Artefakte entstehen. Es wurden gezielt Si-Strukturen entwickelt, die es ermöglichen sollen, das Fehlverhalten des Messgeräts quantitativ zu beurteilen. Die wellenoptische Simulation der Abbildung an problematischen Strukturen spielt dabei eine entscheidende Rolle. In einem zweiten Schritt werden die entwickelten Strukturen durch Heißprägen vervielfältigt. Diese Technologie erlaubt es, unterschiedliche Strukturen kostengünstig auf einem Träger zu vereinen. Die Qualität der Abformung ist insbesondere bei scharfen Kanten von Interesse, da der Grad der Verrundung die Ausprägung der hervorgerufenen Artefakte beeinflusst, und hängt empfindlich von den Prozessparametern ab.