Optimierung eines Laser Pattern Generators zur Erzeugung mehrstufiger Diffraktiver Optischer Elemente
FH OOW
florian.ahnepohl@agent.fho-emden.de
Abstract
Um Strukturen Diffraktiver Optischer Elemente mit einer räumlichen Auflösung in der Größenordnung einiger Mikrometer zu erzeugen, hat sich das direkt schreibende Verfahren unter Einsatz eines Laser Pattern Generators bewährt. Durch die Erhöhung der numerischen Apertur und Tiefenschärfe über Immersion, der Überwachung der Fokusqualität durch ein Position Sensitive Device (PSD), sowie durch die Entwicklung eines topografischen Scanners für Substratoberflächen mit einem hochauflösendem Triangulationssensor, wurde eine Verbesserung der Qualität der Mikrostrukturen erreicht.
Keywords
Lasertechnik
Diffraktive Optik
Mikrolithografie
@inproceedings{dgao107-p62,
title = {Optimierung eines Laser Pattern Generators zur Erzeugung mehrstufiger Diffraktiver Optischer Elemente},
author = {F. Ahnepohl, H. Buse, F. Buchmüller, H. Kreitlow},
booktitle = {DGaO-Proceedings, 107. Jahrestagung},
year = {2006},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
issn = {1614-8436},
note = {Poster P62}
}
107. Annual Conference of the DGaO · Weingarten · 2006