Photolackprozessierung zur Herstellung analoger beugungsoptischer Phasengitter

Herkömmliche quantisierte diffraktive optische Elemente (DOE) hoher Beugungseffizienz lassen sich nur mittels aufwendiger Mehrmaskenprozesse realisieren. Eine Alternative stellen maskenlose Verfahren wie die holographische Lithographie dar, mit deren Hilfe sich analoge Oberflächenprofile direkt in Photoresistschichten übertragen lassen. Dabei wird der kritische Prozessschritt von der exakten Justage binärer Masken hin zur analogen Strukturierung des Photolacks bzw. Substrats verlagert. So gilt es, ausgehend von technologischen Rahmenbedingungen, wie der Wellenlänge und Leistung der verfügbaren Laserquelle, ein Resist-/Entwicklersystem zu wählen, dieses hinsichtlich verschiedener Kenngrößen zu charakterisieren sowie dessen Prozessierung in Temper- und Entwicklungsregime zu optimieren. Unseren Experimenten liegt ein Holographieresist der Firma Allresist GmbH zugrunde, der eine hohe Sensitivität im verwendeten Spektralbereich (457 nm) aufweist. Wir präsentieren die Arbeiten zu dessen exakter Charakterisierung sowie zum Erzielen linearer Responskurven. Während des Optimierungsprozesses entstandene Bauelemente, wie Phasengitter und Fresnel Zonen Linsen, werden demonstriert.