Simulation der Photoresistprozessierung zur Herstellung beugungsoptischer Elemente

Die mikrotechnische Herstellung diffraktiver optischer Elemente (DOEs) in Form analoger oder quantisierter Oberflächenprofile erfordert mindestens einen Lithographieschritt, bei dem die Strukturen in eine Photoresistschicht übertragen werden. Die genaue Einstellung des gewünschten Profils setzt die präzise Auswahl der Prozessparameter sowie die Kenntnis ihres Einflusses auf das Entwicklungsverhalten des Resists voraus. Basierend auf den Daten verschiedener Versuchsreihen zur Charakterisierung eines geeigneten Resist-/Entwickler-Systems (z.B. Allresist SX AR-P 3500/6) wurde ein Softwaretool entwickelt, mit dessen Hilfe der Entwicklungsprozess und das resultierende Oberflächenprofil simuliert werden können. Es ermöglicht sowohl die Abschätzung der realisierbaren Strukturen im Vorfeld der Experimente als auch die Auswahl der Parameter für die analoge Resistprozessierung. Damit lässt sich der experimentelle Aufwand zur Ermittlung geeigneter Prozessparameter deutlich verringern.