Volumenstreuung von synthetischem Quarzglas bei 193 nm

In den letzten Jahren hat die Bedeutung von hochreinem synthetischen Quarzglas als optisches Material für den tiefen ultravioletten Spektralbereich stetig zugenommen. Insbesondere in Projektionsoptiken für moderne 193 nm Immersionslithografie-Systeme kommt fast ausnahmslos dieses Material zum Einsatz. Allerdings treten Effekte wie Streulicht und Absorption auf, die sich in kritischem Maße auf die nutzbare Strahlungsleistung und die Abbildungsqualität auswirken. Beide Mechanismen müssen daher untersucht und separiert werden, um die Materialien zielgerichtet weiterzuentwickeln und Abbildungsfehler geeignet zu kompensieren. Es werden Ergebnisse winkelaufgelöster und totaler Streulichtmessungen bei 193 nm an synthetischen Quarzgläsern mit verschiedenen fiktiven Temperaturen und Hydroxyl-Gehalten präsentiert.