Herstellung diffraktiver optischer Bauelemente mit beliebigen analogen Oberflächen unter Anwendung eines interferometrischen Phasenkontrastverfahrens

Die holographische Interferenzlithographie stellt eine effiziente und kostengünstige Möglichkeit zur Fertigung beugungsoptischer Bauelemente (DOEs) mit analogen Oberflächenprofilen dar. Sie hat damit Vorteile gegenüber kosten- und zeitaufwändigen lithographischen Direktschreibverfahren. Ein Nachteil der holographischen Belichtung ist die begrenzte Vielfalt der erreichbaren Profile. In unserem Beitrag präsentieren wir ein interferometrisches Phasenkontrastverfahren, welches das Umwandeln beliebiger Wellenfronten in Intensitätsverteilungen ermöglicht. Diese frei wählbaren analogen Intensitätsverteilungen werden anschließend zur Belichtung eines mit Photolack beschichteten Substrats verwendet, sodass nach der Entwicklung des belichteten Substrates ein DOE mit analogem Oberflächenprofil entsteht. Große Flexibilität bei der Aufnahme der DOEs wird mittels eines spatialen Lichtmodulators ermöglicht, der die beliebigen Objektwellenfronten dynamisch erzeugt. Wir stellen den Belichtungsaufbau vor und demonstrieren die Flexibilität des Verfahrens anhand verschiedener DOEs, die mit dem Aufbau erzeugt wurden.