Implementierung einer "Tripple-Wavelength" Laserdiode in ein Lithografiesystem und deren Anwendung
Fachhochschule Oldenburg Ostfriesland Wilhelmshaven, Emden, Loughborough University, Leicestershire, UK
Abstract
Durch Einsatz einer, in einer Optical Pickup Unit (OPU) befindlichen Laserdiode, welche Licht in 3 verschiedenen Wellenlängen emittiert (405nm, 650nm, 780nm), kann die Belichtung von Fotolack (405nm) und die Fokuslagenregelung der strahlformenden Belichtungsoptik (650nm oder 780nm) gleichzeitig mit einer einzigen Lichtquelle durchgeführt werden. Weiterhin kann das reflektierte Signal der 650nm, bzw. 780nm- Wellenlänge genutzt werden, um die Topografie der zu beschreibenden Fotolackoberfläche während des Belichtungsvorgangs zu erhalten.
Keywords
Mikrooptik
Diffraktive Optik
Mikrolithografie
@inproceedings{dgao109-p23,
title = {Implementierung einer "Tripple-Wavelength" Laserdiode in ein Lithografiesystem und deren Anwendung},
author = {H. Buse, S. Ernst, T. Sobczak, H. Kreitlow, R. Parkin},
booktitle = {DGaO-Proceedings, 109. Jahrestagung},
year = {2008},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
issn = {1614-8436},
note = {Poster P23}
}
109. Jahrestagung der DGaO · Esslingen · 2008