Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern
- Chair of Optoelectronics, Institute of Computer Engineering, Heidelberg University
xiyuan [dot] liu [at] ziti [dot] uni-heidelberg [dot] de
Im Beitrag wird ein alternatives Verfahren zur gängigen Spleiß-Technik von Monomodefasern vorgestellt. Das Verfahren beruht auf der Herstellung von Faserführungsstrukturen, die durch Tiefenlithographie und Abformung hergestellt werden. Die vertikale Faserpositionierung wird durch "Undercut"-Strukturierung der Strukturwände sichergestellt. Hierbei verjüngt sich die Breite der Faserführung nach unten und erzwingt damit eine Klemmung der Faser. Durch Fixierung mit UV-härtbarem Polymer wird ferner eine Indexanpassung erreicht. In Vorexperimenten wurde eine Dämpfung von ca. -0.02 dB erreicht. Der gesamte Fertigungsprozess und Messergebnisse werden im Poster ausführlich vorgestellt.
@inproceedings{liu2008p40,
author = {Liu, Xiyuan and Brenner, Karl-Heinz},
title = {{Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2008},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {109. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2008-05-14/2008-05-17},
venue = {Esslingen},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2008},
pages = {P40},
langid = {ngerman},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/109-p40}
}