Interferenzlithografische Herstellung von rotationssymmetrischen Sub-Lambda-Gitterstrukturen

Rotationssymmetrische Gitterstrukturen sind für optische Systeme von großer Bedeutung. Als Beispiele sind z.B. Optiken für abbildende Systeme, optische Messtechnik oder Laserstrahlformung zu nennen. In diesem Beitrag zeigen wir ein neues Verfahren zur Herstellung solcher Gitterstrukturen mit Strukturgrößen unterhalb der Belichtungswellenlänge. Konventionelle Verfahren sind in der Regel hinsichtlich ihrer Auflösung (direkt schreibende Laserbelichter) oder ihrer relativ geringen Schreibgeschwindigkeit (Elektronenstrahlschreiber) beschränkt. Das vorgestellte System basiert auf scannender Interferenzlithografie, ein Verfahren das ein konventionelles direkt schreibendes System mit Interferenzlithografie kombiniert. Da dieses System in Polarkoordinaten arbeitet, sind die erzeugten Strukturen frei von Treppenartefakten. Weiterhin kann mit diesem System ein sehr hoher Durchsatz erzielt werden, da die Strukturen nicht linienweise sondern parallel mit einem flächigen Interferenzlinienmuster geschrieben werden. Dieses Interferenzmuster hat eine Ausdehnung von mehreren Mikrometern, was eine Vervielfachung der Schreibgeschwindigkeit um einen Faktor zehn oder mehr ermöglicht.