Vor- und Nachteile der chromatisch-konfokalen Spektralinterferometrie im Vergleich zur klassischen Spektralinterferometrie

Institut für Technische Optik
2 Graduate School of Excellence advanced Manufacturing Engineering

lyda@ito.uni-stuttgart.de

Abstract

Die steigenden Ansprüche an die Qualität von modernen Produkten führen zu höheren Anforderungen an Auflösung und Robustheit der Fertigungsmesstechnik. Optische Sensoren erfüllen diese Ansprüche in hohem Maße und arbeiten zusätzlich berührungslos. Im fertigungsnahen Einsatz eignen sich besonders hochauflösende, "Single-Shot" Verfahren, wie chromatisch-konfokale Mikroskopie (CCM) und spektrale Interferometrie (SI). Die Vorteile der CCM-Sensoren sind die hohe Robustheit, die einfache Signalauswertung und die Flexibilität bezüglich Messbereich und numerischer Apertur (NA). SI-Sensoren bieten eine hohe Tiefenauflösung, eine hohe Dynamik aufgrund des „Interferometric Gains“ und eine geringe Empfindlichkeit gegenüber spektralen Reflektionscharakteristiken des Messobjekts. Ein Nachteil der SI ist die Kopplung des Messbereichs an die NA, wodurch ein Spannungsfeld zwischen Auflösung und Messbereich entsteht. Um dies zu lösen wurden die beiden Verfahren zur chromatisch-konfokalen Spektralinterferometrie (CCSI) kombiniert. Vorgestellt wird ein Vergleich zweier Sensoren basierend auf CCSI bzw. SI. Grundlagen für den Vergleich sind der Tiefenmessbereich, die axiale und laterale Auflösung.

Keywords

Interferometrie Oberflächen 3D-Messtechnik
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@inproceedings{dgao111-b31, title = {Vor- und Nachteile der chromatisch-konfokalen Spektralinterferometrie im Vergleich zur klassischen Spektralinterferometrie}, author = {W. Lyda, D. Fleischle, F. Mauch, T. Haist, W. Osten}, booktitle = {DGaO-Proceedings, 111. Jahrestagung}, year = {2010}, publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.}, issn = {1614-8436}, note = {Vortrag B31} }
111. Jahrestagung der DGaO · Wetzlar · 2010