Breitbandige Quarzglasfaser für Anwendungen im Wellenlängenbereich von 200 nm bis 2300 nm

FH Gießen-Friedberg, Fachbereich Informationstechnik- Elektrotechnik-Mechatronik
W.-Leuschner-Str. 13, 61169 Friedberg

Karl-Friedrich.Klein@iem.fh-friedberg.de

Abstract

Der steigende Bedarf von optischen Spezialfasern in Industrie, Medizin und Chemie, aber aktuell auch in der Astronomie, wird stimuliert durch die gezielte Weiterentwicklung dieser Fasern und der faseroptischen Systeme. Vor allem Quarzglasfasern mit stufenförmigem Brechzahlprofil, deren Kern und Mantel aus undotiertem bzw. fluordotiertem Quarzglas bestehen, werden vom UV- bis zum NIR-Bereich vielfältig eingesetzt. Jedoch muss bislang der OH-Gehalt des synthetisch hergestellten Quarzglaskerns berücksichtigt werden: typische Werte für den UV-Bereich (ab 200 nm) liegen bei 500 ppm und höher, während im NIR-Bereich ein möglichst OH-freies Material gefordert wird. In diesem Beitrag wird eine aktuelle Entwicklung einer Spezialfaser vorgestellt, die breitbandig von 200 nm bis 2300 nm eingesetzt werden kann. Vor allem durch die Verbesserung der UV-Beständigkeit bei extrem geringem OH-Gehalt konnte dies realisiert werden. Die Messergebnisse werden hinsichtlich spektraler Transmission und Degradation mit den Daten kommerzieller Quarzglasfasern verglichen. Ergänzend werden auch die dafür entwickelten Messverfahren vorgestellt sowie mögliche Anwendungen diskutiert.

Keywords

Spektroskopie
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@inproceedings{dgao111-b39, title = {Breitbandige Quarzglasfaser für Anwendungen im Wellenlängenbereich von 200 nm bis 2300 nm}, author = {K.-F. Klein, V. Khalilov, J. Shannon}, booktitle = {DGaO-Proceedings, 111. Jahrestagung}, year = {2010}, publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.}, issn = {1614-8436}, note = {Vortrag B39} }
111. Jahrestagung der DGaO · Wetzlar · 2010