Insitu Charakterisierung von Absorptionsverlusten und Degradationseffekten in Quarzglas: Photothermie & Spannungsdoppelbrechung (BMWi-Projekt PoliLas)

Quarzglas ist eines der am häufigsten verwendeten Materialien in der optischen Industrie. Die hohe Transparenz über einen extrem weiten Spektralbereich, die geringe thermische Ausdehnung sowie die hohe chemische Beständigkeit erlauben verschiedenartigste Anwendungen von der Infrarotspektroskopie über Faseroptiken in der Telekommunikation bis hin zu qualitativ höchstwertigen Objektiven in der Fotografie oder der UV-Lithographie. Im zuletzt genannten Beispiel durchquert die verwendete UV-Strahlung (Excimer-Laser) Quarzglas mit einer Gesamtdicke von über 1 m. Das InnoNet-Projekt PoliLas beschäftigt sich im Schwerpunkt mit der Oberflächenbehandlung (Laserpolitur) und der opto-mechanischen Charakterisierung von Quarzglas. Der Beitrag stellt die Ergebnisse von präzisen Absorptionsmessungen vor, die in die Beiträge der Oberfläche und des Volumens aufgespalten werden können. Dabei kommt als Methode die am LLG entwickelte Photothermie zum Einsatz, die kleinste Absorptionen (sub-‰) anhand der Wellenfrontänderung eines Testlasers detektieren kann. Darüber hinaus wird die mechanische Kompaktierung unter Einfluss von UV Excimer-Laser Strahlung mit Hilfe der Spannungsdoppelbrechung untersucht.