Bewertung der Poliergüte schwer zugänglicher Oberflächen durch Streulichtmethoden

Neueste technologische Entwicklungen, insbesondere in der Halbleiterlithographie und Astronomie, stellen immer höhere Anforderungen an die Qualität und Komplexität optischer Präzisionsoberflächen. So soll beispielsweise für einen Kollektorspiegel für die EUV-Lithographie auf einer ellipsoiden Oberfläche mit einem Durchmesser von mehr als 50 cm eine hochfrequente Rauheit (HSFR) von lediglich 0,2 nm erreicht werden. Dies zu prüfen stellt eine enorme messtechnische Herausforderung dar. Streulichtverfahren bieten sich hierzu in besonderem Maße an, da sie berührungslos, robust und sensitiv gestaltet werden können. Das am Fraunhofer IOF entwickelte Streulichtmesssystem ALBATROSS eignet sich zur Charakterisierung selbst großer und komplex geformter Oberflächen, die anderen Messverfahren oft schwer zugänglich sind. Mittels einer neuen Analysemethode können HSFR-Werte konsistent mit alternativen Verfahren wie der Rasterkraftmikroskopie ermittelt werden. Neben den hochsensitiven Laborsystemen werden neue kompakte Streulichtmesssysteme vorgestellt, die sich auch für den prozessnahen bis hin zum prozessintegrierbaren Einsatz eignen.