Kombinierte Ebenheits- und Rauheitsmessung mittels Speckle-Interferometrie

In zahlreichen Produktionsprozessen sind Ebenheit sowie Rauheit ausschlaggebende Größen bei der Qualitätskontrolle. In herkömmlicher Weise wird hier das Tastschnittverfahren als Standardmessprinzip eingesetzt, obwohl optische Messsysteme zahlreiche Vorteile gegenüber dem mechanischen Vermessen eines Werkstücks bieten: sie sind berührungslos, beschädigungsfrei und lassen sich oft aus großer Entfernung zum Messobjekt anwenden. In dieser Arbeit wird ein Messsystem vorgestellt, das sowohl Rauheit als auch Ebenheit einer Oberfläche mittels Speckle-Interferometrie erfasst. Hierbei werden die Verfahren der Zwei-Wellenlängen-Formvermessung und das Prinzip der spektralen Speckle-Korrelation in einem Messaufbau vereint. Neben der zugrundeliegenden Theorie und der Vorstellung des Messaufbaus werden erste Messergebnisse vorgestellt. Darüber hinaus wird ein Ansatz zur Steigerung der Genauigkeit der Ebenheits- und Rauheitsmessungen unter Berücksichtigung der jeweils anderen Größe vorgestellt.