DUV- Lithografieobjektiv zur Mikrostrukturierung
- Optical Systems Engineering, University of Applied Sciences Ravensburg-Weingarten
kuglerma [at] hs-weingarten [dot] de
An der Eidgenössischen Materialprüfungs- und Forschungsanstalt EMPA in Thun CH, wird im Laboratory for Advanced Materials Processing, unter anderem im Bereich der Laserablation geforscht. Mit Laserablationsanlagen lassen sich mit einem Excimerlaser über Photolithografische Masken, Mikrostrukturen auf bis zu 2 x 1,5 m² große Polymerflächen direkt übertragen. Dabei dienen Projektionsobjektive zum verkleinernden Abbilden der Mikrostruktur in die lichtempfindlichen Polymere. Um Strukturgrößen im Sub- μm- Bereich zu realisieren, wird für die vorhandene Anlage ein neues, leistungsfähigeres Projektionsobjektiv benötigt. Im Rahmen eines Hochschulprojektes an der Hochschule Ravensburg-Weingarten wurde ein erstes Design entwickelt, das den neuen Anforderungen gerecht wird.
@inproceedings{kugler2013p55,
author = {Kugler, M. and Lampen, S. and Pfeffer, Michael},
title = {{DUV- Lithografieobjektiv zur Mikrostrukturierung}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2013},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {114. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2013-05-22/2013-05-25},
venue = {Braunschweig},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2013},
pages = {P55},
langid = {ngerman},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/114-p55}
}