Interferometrische Ellipso-Höhentopometrie

Die Ellipso-Höhentopometrie misst zusätzlich zur Höhentopographie H(x,y) von rauen Oberflächen mit unbekannten lokaler Materialstrukturen die lokalen ellipsometrischen Winkel Ψ(x,y) und Δ(x,y) aus denselben Datensätzen in einem Gerät und mit hoher Lateralauflösung. Da sich in unserem Interferometer die Objektpunkte aller Datensätze exakt auf die jeweils gleichen Pixel des Bildsensors beziehen, können weitere Topographien von Oberflächengrößen wie lokaler Schichtdicken t(x,y) von Überschichtungen oder Materialkarten erstellt werden. Außerdem können lokale Phasenfehler bei Materialwechsel oder Überschichtungen korrigiert werden. Neue theoretische Ansätze zur Reduzierung der Topographiefehler durch die lokalen Steigungen rauer Oberflächen und zur Elimination von Aspektfehlern werden eingeführt, die daraus folgenden instrumentellen Weiterentwicklungen anhand eines neuentwickelten Interferometers diskutiert und die Ergebnisse durch Topographiesätzen technischer Oberflächen verifiziert.