Amplitudengitteroptimierung für Streifenprojektionsverfahren
Berliner Glas KGaA Herbert Kubatz GmbH & Co
Abstract
Für die optische 3D-Abbildung und -Vermessung wurde ein Amplitudengitter für die Streifenlichtprojektion (Phase-Shift-Verfahren) unter Berücksichtigung der partiellen Kohärenz der Lichtquelle und der Aberrationen des realen optischen Systems optimiert. Die Simulation und die Optimierung der optischen Komponente zur Modulation des Lichts sind mit Hilfe einer auf Wellenoptik basierten Software durchgeführt worden. In diesem Beitrag werden verschiedene optimierte Varianten vorgestellt, die eine gezielte sinusförmige Streifenprojektion ermöglichen. Es konnte eine gute Übereinstimmung von Messwerten und Simulationsdaten erzielt werden. Mit den Ergebnissen konnte ein Gitter realisiert werden, das in einer hochwertigen 3D-Messkamera zum Einsatz kommt, welche gegenüber bisherigen Systemen eine höhere Messgenauigkeit aufweist.
Keywords
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