Design und Realisierung einer Breitband-Messeinrichtung (UV-NIR) zur spektralen Charakterisierung von optischen Schichten, Materialien und Systemen

Die Qualitätskontrolle von optischen Schichten und Bauteilen beinhaltet u.a. deren spektrale Charakterisierung. Ein etabliertes Verfahren ist die Spektralphotometrie, wobei in der optischen Fertigung kommerziell verfügbare Photospektrometer angewendet werden. Es besteht jedoch ein steigender Bedarf an kundenspezifischen Optiken mit immer komplexeren spektralen Eigenschaften und engeren Toleranzen. Es muss hinterfragt werden, ob die Standardinstrumente den erhöhten Anforderungen gerecht werden oder ob es neuer Lösungen bedarf. Wir stellen eine anforderungsspezifische spektrale Messeinrichtung vor, mit der optische Komponenten bezüglich ihrer Verluste (Absorption, Streuung) und ihres Übertragungsverhaltens (Reflexion, Transmission) vom UV- bis NIR-Bereich polarisationsabhängig charakterisiert werden können. Die Messreinrichtung besteht aus einer neuartigen lasergezündeten Plasmaquelle, Faserkopplung und Kollimation, einem Polarisator, einer Autokollimationsoptik, einer justierbaren Probenhalterung sowie einem Dioden-Array Spektrometer. Es werden Aufbau und Performance der Messeinrichtung vorgestellt, deren experimentelle Validierung diskutiert sowie Anwendungsbeispiele präsentiert.