Angepasste Interferenzgitter für spektroskopische und Laser-Anwendungen von EUV bis NIR

Durch die Trends im Bereich der High-End-Spektralmess-Systeme, durch die Auslegungen aktueller Seriengeräte sowie auch durch den Einsatz in Kurzpulslasersystemen ergeben sich stetig wachsende Anforderungen an die dispersiven Elemente. Sehr häufig stellt die Interferenzlithografie die beste – wenn nicht gar die einzige – technologische Option dar. Mit ihr gelingt auch die Realisierung massereicher, gekrümmter und/oder großflächiger monolithischer Beugungsoptiken. Kennzeichnend ist weiterhin eine sehr variable Strichzahlverteilung, hohe Beugungseffizienz durch die Vielfalt an erreichbaren Profilformen und hervorragende Werte in Bezug auf das Streulichtniveau. An Hand von Beispielen wird veranschaulicht, welchen Stand diese Technologie, insbesondere auch in Verbindung mit Ionenstrahlätzverfahren, im Hause ZEISS erreicht hat.