Maskenlose Lithographie für die dreidimensionale Mikrostrukturierung

Die maskenlose lithographische Strukturierung nicht-planer Oberflächen mittels Lichtmodulation durch einen phase-only spatial light modulator (SLM) wird untersucht. Dabei wird Licht mit einer bestimmten Phasenverteilung moduliert, um eine gewünschte Intensitätsverteilung auf dem Objekt zu erhalten, die zur Belichtung von Fotolack genutzt werden kann. Durch holographische Projektion bzw. Interferenz wird dabei die Phasenmodulation in die gewünschte Intensitätsverteilung gewandelt. Alternativ können die Phasenverteilungen als beugende Strukturen die gewünschten Lichtverteilungen erzeugen. So können z.B. Verteilungen mit großer Schärfentiefe (nondiffracting beams) ausgenutzt werden. Um die Strukturierung nicht-planer Oberflächen zu ermöglichen, wird bei nicht ausreichender Schärfentiefe ein axialer Scanvorgang oder eine geeignete Anpassung der Wellenfront, etwa durch den SLM, benötigt. Hierfür werden geeignete Phasenverteilungen untersucht, mit denen die erzeugten Intensitätsverteilungen an das Oberflächenprofil angepasst werden können. Dies wird anhand der Funktionalisierung mehrstufiger periodischer Substrate veranschaulicht.