Der Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-Nanostrukturierung

Fachgebiet Technische Optik, TU Ilmenau

xinrui.cao@tu-ilmenau.de

Abstract

In diesem Beitrag diskutieren wir den Einsatz des Lau-Effekts in der Lithographie. Wir untersuchen den Einfluss des Kohärenzgrades der Lichtquellen auf die lithographischen Strukturen in Theorie und Experiment. Im herkömmlichen Versuchsaufbau des Lau-Effekts beleuchtet eine inkohärente Lichtquelle das erste Ronchi Gitter, somit wird eine strukturierte Beleuchtung erzeugt. Diese strukturierte Beleuchtung wird dann zusammen mit einem zweiten identischen Ronchi Gitter durch eine Linse in die Fourier Ebene bzw. die Auffangebene des Versuchsaufbaus abgebildet. Unter der Annahme, dass die Ronchi Gitter unendliche Ausdehnungen haben, entsteht in der Auffangebene eine periodische dreieckförmige Intensitätsverteilung, welche in der Lithographie zu 3D Strukturen genutzt werden kann. Wir testen in unserem Versuch unterschiedliche Kohärenzgrade der Lichtquellen für den Lau-Effekt und untersuchen den Einfluss des Kohärenzgrades auf die lithographische Strukturierung.

Keywords

Optische Systeme Mikrolithografie Lichtquellen
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@inproceedings{dgao119-p44, title = {Der Lau-Effekt in der lithographischen Mikro-Nanostrukturierung}, author = {X. Cao, P. Feßer, D. Fischer, M. Hofmann, Y. Bourgin, S. Sinzinger}, booktitle = {DGaO-Proceedings, 119. Jahrestagung}, year = {2018}, publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.}, issn = {1614-8436}, note = {Poster P44} }
119. Jahrestagung der DGaO · Aalen · 2018