Mikrostrukturierung auf nicht-planen Oberflächen durch SLM-basierte holographische Lithographie

Verschiedene Techniken können für die Mikrostrukturierung von nicht-planen / gekrümmten Oberflächen genutzt werden. Da die Schärfentiefe des Lithographiesystems vielfach überschritten wird, ist eine Anpassung des Prozesses an die zu strukturierende Oberfläche nötig. Die dafür notwendige Vermessung der Oberfläche und Anpassung der Projektion ist sehr aufwändig bei Verfahren, die eine flächige Musterprojektion nutzen. Beide Schritte können mittels Nutzung eines computergenerierten Hologramms (CGH) durch ein optisches Element erreicht werden. Für die Umsetzung der holographischen Projektion wird ein phase-only Liquid Crystal on Silicon Spatial Light Modulator (LCoS-SLM) genutzt. Dies ist ein reflektives Mikrodisplay, welches die Phase einer Wellenfront pixelweise modulieren kann. Die notwendigen Schritte zur Erzeugung eines Lithographiemusters, zur Oberflächenvermessung und –anpassung werden beschrieben. Dazu gehören das optische Setup, die Optimierung der Hologrammberechnung, die Anpassung der Projektion an 3D-Oberflächen sowie die Berücksichtigung der Imperfektionen des LCoS. Erste Belichtungsergebnisse werden vorgestellt.