Formkorrektur von Substraten aus Borosilikatglas mit ns-UV-Laserpulsen

Dünne Substrate sind unter anderem für Weltraumanwendungen interessant. Allerdings ist eine formgenaue Herstellung schwierig und der mechanische Einfluss deponierter Schichten groß, sodass effiziente Verfahren zur Formkorrektur von dünnen Substraten benötigt werden. Wir schlagen eine Methode vor, bei der in die Rückseite des Substrats durch flächige Laserbestrahlung Zugspannungen eingebracht werden, um die Form zu korrigieren. Es werden Ergebnisse zur Verformung von Deckgläsern aus Schott D263M mittels eines ArF-Excimerlasers (Wellenlänge 193 nm; Pulsdauer ca. 20 ns) vorgestellt. Dabei lässt sich über die Fluenz oder die bestrahlte Fläche lokal die Probenkrümmung variieren. Die hohe Pulsenergie und homogene Intensitätsverteilung im Strahlprofil des Excimerlasers erlauben eine schnelle Bearbeitung großer Flächen mittels eines einfachen optischen Aufbaus. Die Methode könnte gut zur Formkorrektur von Substraten aus Borosilikatglas geeignet sein, auf die ein homogenes oder strukturiertes Schichtsystem aufgebracht wurde, das in der Summe eine Zugspannung aufweist. Durch einfache Erweiterungen ließe sie sich aber vermutlich auch zur Korrektur komplexerer Verformungen nutzen.