Formkorrektur von Borosilikatglassubstraten durch Bestrahlung mit einem ArF-Excimerlaser zur Herstellung formgenauer reflektierender Optiken

In der Optiktechnologie werden häufig dünne Schichten auf Glas aufgebracht, um die optischen Eigenschaften der Oberfläche gezielt zu verändern. Diese Schichten weisen nach dem Aufbringen üblicherweise eine Spannung auf, die bei hinreichend dünnen Substraten zu einer störenden Verformung führen kann. Eine Formkorrektur des Substrats kann auch aufgrund anderer Einflüsse notwendig sein. Wir stellen eine Methode vor, bei der in die Rückseite des Substrats durch flächige Laserbestrahlung Zugspannungen eingebracht werden, um dessen Form zu korrigieren [Beckmann, Ihlemann, Opt. Exp. 28(13) 2020]. Es werden Ergebnisse zur Verformung von Borosilikat-Dünngläsern mittels eines ArF-Excimerlasers (193 nm, 20 ns) präsentiert. Dabei lässt sich über die Fluenz oder die bestrahlte Fläche lokal die Probenkrümmung variieren. Durch Beaufschlagung mit einer Mikrostruktur können auch komplexe Verformungen korrigiert werden. Die Methode ist besonders zur Formkorrektur dünner Glassubstrate gut geeignet, die, wegen ihres geringen Gewichts, für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt interessant sind.