Interferometrische Charakterisierung der optischen Eigenschaften von mittels 3D-Laserlithographie hergestellten Mikrostrukturen

Transparente dielektrische Mikrostrukturen, wie bspw. Mikrolinsen oder photonische Mikrostrukturen auf Faserspitzen, gewannen in den letzten Jahren durch die Miniaturisierung von optischen Sensoren stetig an Bedeutung. Um die für den Einsatz solcher Sensoren benötigten Qualitätsanforderungen zu gewährleisten, wird eine Methode zur zerstörungsfreien Charakterisierung der optischen Eigenschaften der verwendeten Mikrostrukturen benötigt. Einen möglichen Ansatz für die Charakterisierung der optischen Eigenschaften stellt die am BIAS entwickelte Computational Shear Interferometry (CoSI) dar. Dieses Verfahren ermöglicht die Bestimmung des Einflusses der Mikrostrukturen auf das optische Wellenfeld sowie die Messung der Oberflächenform mit Messunsicherheiten von deutlich unter 1 µm. Im Rahmen dieses Beitrags stellen wir die optische Charakterisierung anhand von mittels 2-Photonen-Polymerisation (2PP) hergestellten, polymeren Mikrostrukturen vor. Die Bestimmung des transmittierten Wellenfeldes ermöglicht es hierbei sowohl Abweichungen von der Sollgeometrie als auch mögliche Defekte innerhalb der Struktur, wie bspw. inhomogene Brechzahlverteilungen, zu detektieren.