Abbildende holografische EUV-Gitter

Die sehr hohen Anforderungen an die optischen Eigenschaften von EUV-Gittern erfordern geringste Rauheitswerte und minimale Phasenfehler. Hierbei wird in der Regel das technologisch Machbare ausgereizt, um zunächst die hohe Qualität der Substratoberflächen zu garantieren. Bei der anschließenden Erzeugung der Gitterstrukturen muss die Oberflächengüte der Substrate erhalten bleiben. Wenn Beamline-Optiken nicht auf größtmögliche Flexibilität ausgelegt werden müssen, kann vorteilhaft auf Designs mit abbildenden Gittern zurückgegriffen werden. Hierbei wird durch Funktionsintegration die benötigte Anzahl an Optiken und damit die erforderliche Anzahl an Interaktionen von Strahlung höherer Energie mit optischen Flächen reduziert. Dies hat Vorteile in Bezug auf die energetische Effizienz durch materialbedingt eher moderate Reflexionsgrade applizierter Schichten. Zusätzlich reduziert sich dann die durch unvermeidlich herstellungsbedingte Restfehler hervorgerufene Beeinträchtigung der Abbildungsqualität. Es werden entsprechende holografisch realisierte EUV-Gitter und deren Technologien nach neuestem Stand vorgestellt.