Weitere Entwicklungen zum Zwei-Photonen direktem Laserschreiben zur großflächigen Nanostrukturierung

Zwei-Photonen-Absorptionsverfahren (2PA) bieten die Möglichkeit, extrem feine Strukturen auf lichtempfindlichen Materialien zu erzeugen. Für das direkte Laserschreiben zur Mikro- oder Nanofabrikation werden Lasersysteme mit hochpräzisen Positioniersystemen kombiniert. Diese sind meist auf einen Positionierbereich von einigen hundert Mikrometern begrenzt bei Anwendungen basierend auf piezoelektrischen Tischen oder sogar nur relativ wenige zehn Mikrometer bei Anwendungen, die auf Galvanometerscannern basieren. Diese Techniken sind zwar präzise, aber für größere Fertigungsbereiche sind Stitching-Methoden erforderlich. Daher wurde ein Aufbau aus einem Femtosekundenlaser für 2PA und einem Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NMM-1) für das hochpräzise Laserschreiben auf größeren Oberflächen entwickelt. Die NMM-1 wurde an der TU Ilmenau zusammen mit der SIOS Meßtechnik GmbH entwickelt, mit einem mit einem Positioniervolumen von 25 mm × 25 mm × 5 mm und einer Positionierauflösung im Sub-Nanometerbereich. Weiterentwicklungen des Systems sollen deutliche Verbesserungen beim hochpräzisen und stitchingfreien Laserdirektschreiben zur großflächigen Nanostrukturierung ermöglichen.