Hochauflösende EUV-Gitter durch 2D-Phasenkorrektur in der Linienverteilung

Beamline-Optiken stellen extreme Qualitätsansprüche an die optischen Oberflächen, wobei die aktuell verfügbaren Fertigungstechnologien zu drastisch variierendem Aufwand führen, je nachdem, welche geometrische Form benötigt wird. Unter Zuhilfenahme zusätzlicher Freiheitsgrade der Phasenfunktion in der Linienverteilung eines holografischen Gitters kann die Forderung an die Gestalt der Oberflächenform des Blanks hin zu vereinfachter Form beeinflusst werden. Somit stehen gegebenenfalls Lösungen zur Verfügung, die insgesamt fertigungstechnisch vorteilhafter sind. Zwischen gut beherrschbaren Planflächen und den aufwendigsten Freiformflächen gibt es viele Abstufungen. Wenn bei- spielsweise eine Sphäre anstelle einer elliptischen oder torischen Oberfläche ausreicht, ist die Realisierung des Gitters sehr wahrscheinlich insgesamt ökonomischer. Die möglichen Technologie-Optionen durch einen holografischen Ansatz sind scheinbar nur in begrenz- tem Umfang den Anwendern bekannt. Wir diskutieren die Möglichkeiten zur Beschreibung holografischer Gitter mit zusätzlicher 2D-Phasenverteilung und zeigen auf, wie sich dabei die optische Leistungsfähigkeit des Beugungsgitters insgesamt steigern lässt.