Abtragsfreie Oberflächenstrukturierung silikatischer Gläser mittels ultrakurz gepulster Laserstrahlung

Die Bestrahlung dielektrischer Materialien mit hochenergetischen ultrakurzen Laserpulsen bietet vielfältige Möglichkeiten zur Mikro- und Nanostrukturierung. Entscheidend ist dabei die zeitliche und räumliche Energieverteilung auf der Oberfläche und im Volumen des Materials. Die Arbeit zeigt erstmals eine abtragsfreie, großflächige Oberflächenmodifikation von Glas im Scanning-Verfahren mittels Ultrakurzpulsstrahlung und untersucht die Veränderung der Oberflächentopographie auf der Ober- und Unterseite der Glasproben in Abhängigkeit von den gewählten Laserparametern. Die erzeugten Strukturen zeigen sich in Form von Mikrowölbungen, die je nach eingebrachter Laserleistung unterschiedlich stark ausgeprägt sind. Ihre Charakterisierung erfolgt im Rahmen der Studie mit Hilfe der Weißlichtinterferometrie. Die Analyse der Spannungsdoppelbrechung, der Oberflächenrauheit und möglicher Tiefenschädigungen liefert wichtige Erkenntnisse zum Prozessverständnis. Die Arbeit eröffnet neue Perspektiven für die Herstellung mikrooptischer Komponenten und bietet Ansätze für weiterführende Untersuchungen zur gezielten abtragsfreien Oberflächenstrukturierung.