R. Völkel
SUSS MicroOptics SA, Neuchatel, Schweiz
7 papers
S3 · Invited Talk · 127. Conference (2026)
Adolf Lohmann and the Return of the Optical Computer: Vision, Legacy, and Lessons for the AI Age
B22 · Talk · 112. Conference (2011)
Optimierung des Beleuchtungssystem eines Mask Aligners (MO Exposure Optics)
P17 · Poster · 112. Conference (2011)
Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization
B33 · Talk · 109. Conference (2008)
Eindimensionale Diffusoren für Laseranwendungen
P39 · Poster · 109. Conference (2008)
Einkopplung in Multi-Mode-Faser mit Strahl-Homogenisierern
P56 · Poster · 109. Conference (2008)
Spot Array Shaping
H6 · Keynote · 107. Conference (2006)