B14 · Vortrag · 125. Tagung (2024)
Verfahren zum Schutz von Objektiven für neue Fotolacke in der hochauflösenden Zweiphotonenlithografie
A. Toulouse* **, S. Thiele***, V. Aslani* **, K. Hirzel****, M. Schmid***, K. Weber** *****, M. Zyrianova****, H. Giessen** *****, A. Herkommer* **, M. Heymann****