Verfahren zum Schutz von Objektiven für neue Fotolacke in der hochauflösenden Zweiphotonenlithografie

Der Zweiphotonen-3D-Druck eröffnet neue Perspektiven für die Entwicklung und Fertigung komplexer Mikrooptiken. Hierfür ist die Optimierung neuer Fotolacke ein integrales Forschungsfeld, um neue Materialen beispielsweise als Aperturblenden oder integrierte Farbfilter verdrucken zu können. Bei der „Dip-in“-Lithografie etwa dienen die Fotolacke als Immersionsmedium und berühren die zum Druck verwendeten Mikroskopobjektive. Dies erschwert die Arbeit mit experimentellen Fotolacken und verhindert die Verwendung aggressiver Lösemittel. In diesem Beitrag wird ein einfaches, auf Klarsichtfolie basierendes Verfahren präsentiert, mit dem die Schreibobjektive vom Fotolack abgeschirmt werden können. Wir zeigen durch Simulationen und Experimente, dass ein großes Prozessfenster mit dem neuen, einfach nachrüstbaren Verfahren abdeckbar ist, ohne die Auflösung im Submikrometerbereich einzubüßen. Beispielhaft wird die erfolgreiche Herstellung von absorbierenden Filtern, farbfilternden Mikroobjektiven, biologischen Strukturen und Metallstrukturen gezeigt.