A1 · Vortrag · 113. Tagung (2012)
AMALITH: Advanced Mask Aligner Lithography
A. Bramati, T. Weichelt, L. Stürzebecher, B. Meliorisz, U. Vogler, R. Voelkel
A2 · Vortrag · 113. Tagung (2012)
MO Exposure Optics: Pushing Limits of Shadow Printing Lithography in Mask Aligners
U. Vogler, A. Bramati, R. Voelkel, M. Hornung
H2 · Hauptvortrag · 113. Tagung (2012)
Optical Lithography - Key Enabling Technology for our Modern World
R. Voelkel