E. Kley

Institut für Angewandte Physik, Friedrich-Schiller-Universität Jena

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P36 · Poster · 106. Tagung (2005)

Combination of binary and analog lithography to fabricate efficient planar-integrated free-space optical interconnects

R. Heming, J. Jahns, M. Gruber, L. Wittig, E. Kley