Hochauflösende Streulichtanalyse an optischen Komponenten im VUV bis IR

Die steigenden Anforderungen an optische Oberflächen, Komponenten und Systeme bewirken eine stetige Verschärfung der Leistungsparameter von Streulichtmessanordnungen zur Analyse von optischen Verlusten, Rauheiten und Defekten an beschichteten und unbeschichteten Komponenten hinsichtlich Wellenlängenbereich und Sensitivität. Die am Fraunhofer IOF Jena entwickelten Anordnungen zur Messung der totalen (TS) und winkelaufgelösten (ARS) Streuung und der einfallswinkelabhängigen Reflexion und Transmission in einem Wellenlängenbereich vom 157 nm bis 10,6 µm werden vorgestellt. Es wurden Sensitivitäten bis zu 12 Größenordnungen (ARS) und Empfindlichkeiten von < 0,1 ppm (TS) erreicht. Die Anwendungsgebiete solcher Messtechnik erstrecken sich von der UV-Photolithographie über Kommunikationstechnik, nanostrukturierte Oberflächen, Kamerasystembewertungen etc. bis hin zu technisch rauhen Oberflächen und Aussagen zur "Appearance" ästhetisch anspruchsvoller Oberflächen.