Realisierung von diffraktiven Strukturen auf Faserstirn- und D-förmigen Faserseitenflächen

Lithographische Techniken erlauben die Realisierung diffraktiver und mikrooptischer Strukturen mit hoher Auflösung und großer Flexibilität. Typischerweise erfolgt diese Strukturierung aber auf ausgedehnten planaren Wafersubstraten. In diesem Beitrag wird dagegen über die direkte Strukturierung auf den Seiten- und Endflächen optischer Fasern berichtet. Durch eine geeignete Präparierung der Fasern wird die Belichtung von Gitterstrukturen mit Perioden bis zu 1,3 µm in einem Laserlithographiesystem ermöglicht. Anwendungen zur Strahleinkopplung über Gitter auf D-förmigen Lichtleitfasern sowie zur Strahlteilung bei Auskopplung über die Stirnfläche werden vorgestellt und mit Modellrechnungen verglichen.